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单晶硅锭及晶圆的形成方法

来源:华拓网
(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利说明书

(21)申请号 CN201510672144.6 (22)申请日 2015.10.15

(71)申请人 上海新昇半导体科技有限公司

地址 201306 上海市浦东新区泥城镇云端路1412弄15号3层

(10)申请公布号 CN106591944B

(43)申请公布日 2018.08.24

(72)发明人 肖德元;张汝京

(74)专利代理机构 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人 金华

(51)Int.CI

权利要求说明书 说明书 幅图

(54)发明名称

单晶硅锭及晶圆的形成方法

(57)摘要

本发明提出了一种单晶硅及晶圆的形

成方法,先对硅片进行氘原子的注入,使氘原子保留在硅片间隙内,接着,在采用直拉法形成单晶硅锭时,使用被注入氘原子的硅片,使形成的单晶硅锭中氧含量和其它杂质降低,采用单晶硅锭形成晶圆后,在晶圆上形成的器件时,氘能够扩散出,并与界面处等悬空键进行结合,形成较为稳定的结构,从而避免热载流子的穿透,降低漏电流,提高器件的性能与可靠性。 法律状态

法律状态公告日

2017-04-26 2017-04-26 2017-05-24 2017-05-24 2018-08-24

公开 公开

法律状态信息

公开 公开

法律状态

实质审查的生效 实质审查的生效 授权

实质审查的生效 实质审查的生效 授权

权利要求说明书

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说明书

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