专利名称:一种用于ITO导电膜的保护膜专利类型:实用新型专利发明人:刘楷楷,董红星申请号:CN202021581174.9申请日:20200803公开号:CN2128661U公开日:20210402
摘要:本实用新型提供了一种用于ITO导电膜的保护膜,涉及ITO导电膜领域,包括从下往上依次贴合的基材、抗静电层和亚克力胶层;所述抗静电层采用将抗静电剂涂布在所述基材上固化后形成,所述抗静电层的厚度为0.1‑2μm;本实用新型提供的一种用于ITO导电膜的保护膜,在贴合过程中,撕除离型膜时静电很快消散,环境中异物灰尘不会吸附到胶层表面,降低环境中颗粒物的影响,提高了产品良率;由于消除了静电影响,可实现在线贴合,减少覆膜机设备的投入,减少了一道制程的损耗,提高了产出率,节约了制造成本;并且抗静电层的厚度采用0.1‑2μm,在节省成本的前提下,能够起到较好的消除静电效果;克服了现有ITO用保护膜良率低以及无法在线贴合的缺陷。
申请人:宁波惠之星新材料科技有限公司
地址:315000 浙江省宁波市江北区慈城镇路988号4幢
国籍:CN
代理机构:余姚德盛专利代理事务所(普通合伙)
代理人:戚秋鹏
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