一种气相沉积装置[实用新型专利]
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专利名称：一种气相沉积装置专利类型：实用新型专利发明人：张向平,方晓华申请号：CN201821978752.5申请日：20181117公开号：CN209243168U公开日：20190813
摘要：本实用新型涉及薄膜制备领域，一种气相沉积装置，包括沉积腔、进气口I、导气管、出气口I、出气口II、导流罩、样品腔、传送杆、样品、样品座、样品台、操纵杆、进气口II、门阀I、进样腔、真空泵I、门阀II、分析腔、真空泵II和真空泵III，在真空环境中进行气相沉积，采用特殊的导流罩，能够减少样品制备过程中的真空污染，低真空环境中进行的样品制备过程和高真空环境中的样品分析过程均能够在装置中完成，并能够更加精确地调节样品温度，能够调节样品与样品座之间的接触压力及样品座与加热器之间的接触压力，样品温度的调节更加精确，获得的薄膜样品质量高，从样品制备到分析的过程步骤简单、操作快捷。
申请人：金华职业技术学院
地址：321017 浙江省金华市婺州街1188号
国籍：CN
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