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具有特殊的表面处理和良好颗粒性能的硅溅射靶及其制造方法[发明专利]

来源：华拓网

专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：具有特殊的表面处理和良好颗粒性能的硅溅射靶及

其制造方法

专利类型：发明专利

发明人：Y.元,E.Y.伊瓦诺夫,Y.刘,P.弗劳斯托,W.苗申请号：CN2012800872.5申请日：20121107公开号：CN103917685A公开日：20140709

摘要：提供一种包括Si靶和背衬板的溅射靶组件，其中所述背衬板结合到所述靶上。Si靶包括平滑的、镜面状的表面，并具有小于约15.0埃的表面粗糙度。提供用于制造硅靶/背衬板组件的方法，其中，加工硅坯件以从坯件表面去除划痕，产生靶上的镜面状的表面、以及15.0埃或更小的表面粗糙度。该方法包括第一和第二清洁步骤，第一步骤在划痕去除步骤之前进行，且第二步骤在划痕去除之后进行。

申请人：东曹SMD有限公司

地址：美国俄亥俄州

国籍：US

代理机构：北京市柳沈律师事务所

代理人：宋莉

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