一种电子工业水基清洗剂及其制备方法[发明专利]
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专利名称：一种电子工业水基清洗剂及其制备方法专利类型：发明专利发明人：唐远金,徐安莲申请号：CN201611077884.6申请日：20161130公开号：CN106635478A公开日：20170510
摘要：本发明涉及电子工业清洗剂技术领域，是对现有技术的改进，具体涉及一种电子工业水基清洗剂，其重量百分比（%）为：偏硅酸钠20.0~30.0%、表面活性剂0.1~4.5%、缓蚀剂
0.01~0.04%、消泡剂0.01~0.04%、其余为去离子水，各成分重量之和为100%。本发明具有下述特点：不含挥发性有机溶剂、不腐蚀被清洗物件、应用范围广、制备时无需加热溶解节约能源。本发明实用，市场潜力大。
申请人：重庆微世特电子材料有限公司
地址：401321 重庆市巴南区鱼洞花土湾90号-94号12号
国籍：CN
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